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アイテム
X線反射率法による単結晶シリコン研磨面の加工変質層深さの評価
https://akita.repo.nii.ac.jp/records/923
https://akita.repo.nii.ac.jp/records/923279814ba-5705-4810-9922-50b8f45c1766
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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KJ00005254821.pdf (2.2 MB)
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| Item type | [ELS]紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
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| 公開日 | 2017-03-01 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | X線反射率法による単結晶シリコン研磨面の加工変質層深さの評価 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Evaluation of Surface Damaged Layer of Single Crystal Silicon Polishing Process Surface by X-rays Reflectivity Method | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| 雑誌書誌ID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AN10362016 | |||||
| 著者 |
藤原, 考佑
× 藤原, 考佑× 落合 雄二 |
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| 記事種別(日) | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 論文 | |||||
| 記事種別(英) | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | Article | |||||
| 書誌情報 |
秋田工業高等専門学校研究紀要 巻 44, p. 9-16, 発行日 2009-02-28 |
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| 表示順 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 2 | |||||
| アクセション番号 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | KJ00005254821 | |||||
